光學(xué)濾光片對(duì)表面的要求比較高，傳統(tǒng)的清洗方式效率低且元器件表面清洗一致性差；納宏光電采用的超聲波清洗工藝清潔度高且濾光片表面清潔一致度好。
2020-10-15 NMOT 291
